►半導體設備部
主要銷售產品為半導體產業二手設備，依照製程有下列廠牌設備：
1. PR：NIKON (G Line & I Line)，Canon Stepper， (Resolution from 0.35μm~0.8μm)
2. CD SEM：KLA Tencor Series， Hitachi
3. CVD：Applied
4. Implantor：Varian
5. ICP：LAM Research，ULVAC
6. Others：Measurement and Testing Tools
另外也針對客製化需求提供整廠設備平行輸出/入之服務及Turn-Key Solution應用於：
MEMS(Micro-Electro-Mechanical-System)及PA(Power Amplifier)等產品，我司擁有的技術團隊也能夠提供以上設備的翻新(Refurbish)、裝機等服務。範圍涵蓋4”~8” Wafer半導體廠。
針對LED產業，同樣依照客戶需求能夠提供整廠設備平行輸出/入之服務，磊晶製程(Epitaxy Process)設備有Aixtron或是Veeco磊晶機(MOCVD)，光電測試機、X光量測機、激光量測機；晶粒製程(Chip Process)設備有蒸鍍機(E-Gun)、光學鍍膜設備(Coating)、乾/濕蝕刻機(Etching)、研磨機(Lapping)、點測機(Probing)、晶粒篩檢機(Sorter)等二手設備。
1. PR：NIKON (G Line & I Line)，Canon Stepper， (Resolution from 0.35μm~0.8μm)
2. CD SEM：KLA Tencor Series， Hitachi
3. CVD：Applied
4. Implantor：Varian
5. ICP：LAM Research，ULVAC
6. Others：Measurement and Testing Tools
另外也針對客製化需求提供整廠設備平行輸出/入之服務及Turn-Key Solution應用於：
MEMS(Micro-Electro-Mechanical-System)及PA(Power Amplifier)等產品，我司擁有的技術團隊也能夠提供以上設備的翻新(Refurbish)、裝機等服務。範圍涵蓋4”~8” Wafer半導體廠。
針對LED產業，同樣依照客戶需求能夠提供整廠設備平行輸出/入之服務，磊晶製程(Epitaxy Process)設備有Aixtron或是Veeco磊晶機(MOCVD)，光電測試機、X光量測機、激光量測機；晶粒製程(Chip Process)設備有蒸鍍機(E-Gun)、光學鍍膜設備(Coating)、乾/濕蝕刻機(Etching)、研磨機(Lapping)、點測機(Probing)、晶粒篩檢機(Sorter)等二手設備。
何紀壯
【聯絡電話】
02-2719-3126 分機 2302
【EMAIL】
[email protected]
►用於LED PSS黃光製程的步進機(Stepper)
各式尼康步進機 (Nikon Stepper) 買賣、設備翻修及安裝、製程調適、機臺搬遷服務。
Model: Nikon G6、G7、i-8、i10、i11…
►用於LED PSS蝕刻製程的蝕刻機 (ICP Etcher)
用於去除在LED 藍寶石上的薄膜材料，以達到產生所需圖案（Pattern）所需的蝕刻機 ( ICP Etcher)。
►光學鍍膜設備(Optical coating)
以物理蒸鍍機或是濺鍍機為主，在光學元件上或獨立基板上，鍍上一層或多層之介電質膜或金屬膜來改變光波傳遞的特性。
