在光學薄膜濾光片中,SiO2 薄膜是很好的一種單層抗反射膜,更是最常用的一種低折射率膜層,用來製鍍多層光學薄膜濾光片。
產品特性:其穿透區涵蓋0.15μm 至 8μm,具有很小的吸收損耗;與多數不同材料的基板擁有良好的附著性,表面也具有良好的耐刮性;結構穩定,不易與其他材料發生反應,產生變質,具有耐酸鹼、抗腐蝕的優點。
石英環應用於光學鍍膜和半導體製程。具有純度
高、光線透過濾高、附著力好,可應用於光學鍍膜的低折射率材料,搭配高折射率材料透過鍍膜設備蒸鍍方式,
在光學玻璃上製作 AR 、IR 等膜層。
半導體製程的 SiO2 Ring 則用在設備如: TEL (Cover Ring, Focus Ring, Shield Ring)、LAM
(Edge Ring, TOP R年)、AMAT (Cover Ring, Shield Ring, Shadow Ring)等。
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高折射率薄膜材料,化學特性穩定,也不溶於水,在紅外光與可見光區也是透明的,不管是電子鎗蒸鍍法、
磁控濺鍍法或是離子束濺鍍法所鍍製,Ta2O5薄膜穩定且不易結晶,是很好的介電材料,常
用於半導體元件中。
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製作潑油性薄膜的真空蒸著材料MS-EC100
1.鍍製薄膜以後、表面變滑,從而可以防止薄膜面的污染與傷痕。
2.疏水性能增加,防止水跡。
3.防止油污(防止手紋)。
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用於光學鍍膜之靶材(Al、Al-Ti、Al-Si、Cr、Cr-Si、Cu-Al、ITO、Nb、Ni-Cr、Ni-Cu、Ni-V、Si、SiO2、Ta、Ti、ZnS-SiO2...其他材質)
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石英震盪片由於具有較低的接觸電阻、高化學穩定性和良好的沉積性能,適合於低應力材料的鍍膜監控,如金、銀、銅等的膜厚控制。利用監控器,對晶體或其附近任何物體上沉積膜料的厚度進行即時測量。石英振盪片主要代理:Filtech;另提供自製石英振盪片。
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Filament IB & EB系列,針對真空鍍膜與光學鍍膜領域用之電子槍燈絲、離子源燈絲而設計,廣泛應用於汽車、手機、鏡面、裝飾品及各種有機體、金屬體的表面噴鍍,涵蓋大部份的鍍膜應用。
產品特性:
1.良好的放電性能和抗下垂性。
2.製程中不易變形,平均使用壽命約40~60小時。
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鍍膜機用於盛裝鍍膜材料之器皿(材料:石墨、無氧銅、銅...等)
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用於Leybold鍍膜機台的加熱器。
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適用於精密模壓成型,玻璃軟化溫度600℃以下,能有效延長模具壽命,減少製造成本,應用於非球面壓型等領域。
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主要功能為增加色彩飽和度和降低色差,適用於CCD/CMOS等圖像感測晶片,通過對700nm以上的紅外光截止,使圖像呈現和人眼一致的效果,且具有很高的環境耐侯性。
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氧化鈰拋光粉在拋光玻璃上具有切削力強、拋光時間短、使用壽命長、拋光精度高的優點。氧化鈰拋光粉應用於拋光精密光學玻璃、液晶玻璃、光罩玻璃、蓋板玻璃等。
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氧化鈰拋光液:特點是顆粒分佈均勻,用於硬碟玻璃、光罩玻璃、藍玻璃及精密光學玻璃的精拋製程。
氧化鋯拋光液:用於軟材質光學玻璃(磨耗度350以上)精拋製程。
氧化矽拋光液:用於藍寶石基板、精密五金等材質拋光。
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用於精密光學玻璃、液晶面板玻璃、手機蓋板玻璃、金屬等多種材質之拋光材料。
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各類鑽石加工工具,可接受客製化服務,適用於精密玻璃製造商、各式基板製造商、半導體材料製造商、太陽能產品製程商、金屬加工製造商、各式原料製造商。
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提供5M~21M等高階畫素手機鏡頭。
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用於CCTV、IP Camera、DV、視訊 Camera。
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用於太陽能PECVD製程中的Dummy材料。
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用於太陽能PECVD製程,使用高密度高純度石墨材料,加工精度高及接受客製化製作。
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